基于防伪底纹与图像复用的防伪超表面的设计方法

摘要

本发明涉及微纳光学及光学防伪技术领域，公开了一种基于防伪底纹与图像复用的防伪超表面的设计方法，包括如下步骤：构建纳米砖阵列，纳米砖阵列包括多个纳米砖结构单元，优化获得功能等效为微纳起偏器、具有不同光谱响应的至少两组纳米砖结构单元的备选尺寸参数，且各组备选尺寸的纳米砖结构在波长λ₀处的响应特性相同；确定超表面需要进行复用的连续灰度图像、防伪底纹图像以及双色图像；根据进行复用的图像来排列纳米砖单元结构的尺寸和纳米砖转向角，构成超表面材料。本发明设计的超表面在不同偏振方向的线偏振光入射下能显示灰度图像或防伪底纹图像，在白光照明下显示双色图像，其具有算法复杂程度低、安全性高以及隐蔽性强等优点。