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陶瓷生片的制造方法和使用该陶瓷生片的电子部件的制造方法

摘要

本发明提供了一种用于制造多层电子部件的生片,对于具有凹陷和凸起的复杂构造的绝缘层或类似层,可确保其形状和形成位置的精度,并确保厚度的均匀。光敏材料包含具有特定电气性能的粉末,这种由光敏材料构成的层在一个透光的基础部件上形成。具有若干图形的掩膜设置在基础部件的背面,这些图形的紫外光透射率不同。光敏材料经过一个曝光工艺,其中紫外光或类似光通过掩膜照射光敏材料。在曝光工艺之后,光敏材料经过一个显影工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN100446137C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN200410079497.7

  • 申请日2004-08-27

  • 分类号H01G4/12(20060101);H01G4/30(20060101);H01G13/00(20060101);H01F41/00(20060101);H01F17/00(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人杨晓光;李峥

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-30

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01G 4/12 授权公告日:20081224 终止日期:20120827 申请日:20040827

    专利权的终止

  • 2008-12-24

    授权

    授权

  • 2005-05-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-16

    公开

    公开

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