首页> 中国专利> 一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法

一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法

摘要

一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法属于金属材料表面改性技术领域。在电弧离子镀中采用双电磁场结构的阴极弧源和脉冲方式的负偏压,利用电磁场过滤减少大颗粒的数量,并通过脉冲偏压控制沉积温度,在金属表面,尤其是低熔点的铜锌铝合金材料表面低温沉积高质量的铬、锆、钛、铝及其合金或者其氮化物、碳化物薄膜,即能满足装饰性要求,又能满足耐磨抗蚀性能要求。与传统结构的电弧离子镀设备和方法相比,不明显降低沉积效率,但大幅度提高沉积质量,尤其是薄膜的表面质量,而且能够将沉积温度控制在低熔点合金可以接受装饰镀膜的程度。适用于各种金属及低熔点合金制品的装饰性镀膜领域。

著录项

  • 公开/公告号CN100460555C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连理工大学;

    申请/专利号CN200610045720.5

  • 发明设计人 林国强;

    申请日2006-01-20

  • 分类号C23C14/22(20060101);C23C14/56(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构21226 大连八方知识产权代理有限公司;

  • 代理人卫茂才

  • 地址 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-26

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/22 变更前: 变更后: 登记生效日:20130603 申请日:20060120

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-06-05

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/22 变更前: 变更后: 登记生效日:20130506 申请日:20060120

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-04-03

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/22 变更前: 变更后: 登记生效日:20130313 申请日:20060120

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-02-11

    授权

    授权

  • 2006-09-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-19

    公开

    公开

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