基于相变材料晶化前后透过率差的超分辨光学成像方法

摘要

一种基于相变材料晶化前后透过率变化的超分辨光学成像方法，利用Ge₂Sb₂Te₅薄膜材料的可擦重写和相变特性，使可逆变换的同时，在光斑聚焦处形成中心透过率高，边缘透过率低的状态，通过状态形成前后光斑的差分，获得一个重复可逆并且小于衍射极限的扫描光斑信号，进而可以实现超分辨远场光学成像。