首页> 中国专利> 金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法

金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法

摘要

本发明涉及一种金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法,通过涂布含金属的有机金属络合物形成有机金属层。通过光掩模将该有机金属层曝光,并且显像以形成金属图案。

著录项

  • 公开/公告号CN100442539C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN02828517.4

  • 申请日2002-07-24

  • 分类号H01L29/786(20060101);

  • 代理机构11240 北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人余刚;彭焱

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-23

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L29/786 变更前: 变更后: 登记生效日:20121219 申请日:20020724

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-01-23

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/786 变更前: 变更后: 登记生效日:20121219 申请日:20020724

    专利申请权、专利权的转移

  • 2008-12-10

    授权

    授权

  • 2008-12-10

    授权

    授权

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-01

    公开

    公开

  • 2005-06-01

    公开

    公开

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