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旋转光路光束装置及旋转光路光束系统

摘要

本发明提供了一种旋转光路光束装置及旋转光路光束系统,包括:沿光轴依次分布的波片旋转机构、二维扫描机构、第一调节镜组、第二调节镜组、反射镜和聚焦镜组;波片旋转机构用于将入射的激光光束通过高速旋转形成各个方向一致的偏振态,保持激光光束的偏振态为径向分布;二维扫描机构用于对激光光束X‑Y平面进行扫描,形成加工所需的绕光轴旋转的环;第一调节镜组、第二调节镜组、反射镜和聚焦镜组用于控制环的大小和光束的角度。本发明可以减少打孔过程中激光偏振态的影响,保证加工孔的圆度。

著录项

  • 公开/公告号CN110919174B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉华工激光工程有限责任公司;

    申请/专利号CN201911334962.X

  • 发明设计人 王雪辉;温彬;喻浩;王玉莹;

    申请日2019-12-20

  • 分类号B23K26/06(20140101);B23K26/064(20140101);B23K26/382(20140101);G02B26/06(20060101);G02B26/10(20060101);

  • 代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人李飞

  • 地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学科技园激光产业园

  • 入库时间 2022-08-23 12:01:16

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