公开/公告号CN110919174B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-25
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉华工激光工程有限责任公司;
申请/专利号CN201911334962.X
申请日2019-12-20
分类号B23K26/06(20140101);B23K26/064(20140101);B23K26/382(20140101);G02B26/06(20060101);G02B26/10(20060101);
代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人李飞
地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学科技园激光产业园
入库时间 2022-08-23 12:01:16
机译: 用于改变光束束的光路长度的装置,包括入口和出口平面,光路,可旋转的反射镜和控制装置,其中通过改变反射镜的旋转角度来调节光路的长度
机译: 使用激光束的基板处理设备具有旋转镜,该旋转镜使激光束沿着不同的光路偏转
机译: 旋转光路梁装置,使用相同和旋转光路波束系统的方法