一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法

摘要

本发明提供一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法，通过冷等静压压型‑烧结‑热等静压压型‑热轧制‑退火‑机加工的工艺流程来制备钼靶材，钼靶材先通过热等静压处理后，对钼靶材坯料进行了第一次致密化处理，然后将该坯料进行热轧处理，对钼靶材坯料进行了第二次致密化处理，最后经过950‑1100℃，保温60‑90min的退火处理及机械加工等工序获得所需性能的钼靶材。本发明的制备方法能够制作出高纯度(纯度达到99.9％以上))、全致密(密度达到99.9％以上)、超细晶(晶粒度小于20μm)的钼靶材，可满足要求越来越高的溅射工艺，提高薄膜溅射速度，改善钼金属溅射薄膜的质量，提高薄膜性能。