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一种用于超导回旋加速器的螺旋型径向靶上束流模拟方法

摘要

本发明提出了一种用于超导回旋加速器的螺旋型径向靶上束流模拟方法:包括步骤一、选择径向靶的材料和形状;步骤二、模拟靶放在距加速器中心当前位置的时候,大量粒子打在靶当前位置时的入射位置、入射速度和入射角度;所述入射速度即是粒子入射能量;步骤三、模拟不同速度粒子垂直入射时最大能打穿靶的厚度L2和束流通过径向靶发生散射后的散射分布;步骤四、由粒子打在靶时上的入射位置、入射速度、入射角度以及步骤一靶的形状计算粒子实际能打穿靶的厚度L1;步骤五、若L1

著录项

  • 公开/公告号CN110824542B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国原子能科学研究院;

    申请/专利号CN201910996321.4

  • 申请日2019-10-18

  • 分类号G01T1/29(20060101);

  • 代理机构11508 北京维正专利代理有限公司;

  • 代理人卓凡

  • 地址 102413 北京市房山区新镇北坊

  • 入库时间 2022-08-23 11:43:50

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