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谐振腔发光二极管及其制造方法

摘要

本发明公开了一种谐振腔发光二极管及其制造方法,属于半导体技术领域。所述谐振腔发光二极管包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的N型层、有源层、P型层、透明导电层、钝化层,所述P型层和所述透明导电层上均设有P型电极,所述N型层上设有N型电极,所述衬底的远离所述N型层的一面设有下反射镜层,所述钝化层上设有上反射镜层。此时可以通过提高Al在GaN中的掺杂浓度即可达到下反射镜高反射率的要求。由于下反射镜层设置在衬底的远离N型层的一面上,因此提高Al的浓度不会影响RCLED的外延质量。

著录项

  • 公开/公告号CN110071200B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华灿光电股份有限公司;

    申请/专利号CN201910215605.5

  • 发明设计人 顾俊;胡任浩;胡加辉;周飚;

    申请日2019-03-21

  • 分类号H01L33/10(20100101);H01L33/22(20100101);H01L33/44(20100101);H01L33/46(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构11138 北京三高永信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人徐立

  • 地址 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号

  • 入库时间 2022-08-23 11:41:53

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