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综合孔径干涉近场主动源成像方法和装置

摘要

一种综合孔径干涉近场主动源成像方法和装置,该方法包括对散射目标进行照射并接收散射回波信号;将不同接收单元接收到的回波信号作互相关处理,得到互相关函数;对近场的相位曲面曲率进行校正,得到修正的互相关函数;对修正的互相关函数进行傅里叶变换得到目标亮度函数;将目标亮度函数变换到空间直角坐标系中,即得到目标所在位置。本发明利用空间波数域基线矢量的对称性扩大综合孔径保证较高的方位向分辨率,利用快速傅里叶变换关系保证方法的计算效率,从而实现了高分辨率和高时效性的成像方法。

著录项

  • 公开/公告号CN110554387B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院电子学研究所;

    申请/专利号CN201910835644.5

  • 发明设计人 吴世有;王慧;黄玲;方广有;

    申请日2019-09-04

  • 分类号G01S13/90(20060101);G01S13/42(20060101);G01S7/41(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴梦圆

  • 地址 100190 北京市海淀区北四环西路19号

  • 入库时间 2022-08-23 11:38:27

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