离子注入装置、离子注入方法及射束测量装置

摘要

本发明提供一种离子注入装置、离子注入方法及射束测量装置，其课题在于高精度地测量具有规定轨道的射束成分。本发明的离子注入装置具备：射束偏转装置(42)，使通过前段射束路径(P1)的离子束偏转，且向晶片(40)射出射束以便通过后段射束路径(P2)；射束过滤狭缝(52)，位于射束偏转装置(42)与晶片(40)之间，局部屏蔽在后段射束路径(P2)中行进的射束，以供具有规定轨道的射束成分向晶片(40)通过；剂量杯(50)，位于射束偏转装置(42)与射束过滤狭缝(52)之间，且测量出从射束偏转装置(42)射出的一部分射束以作为射束电流；及轨道限制机构(60)，位于射束偏转装置(42)与剂量杯(50)之间，防止从射束偏转装置(42)射出而朝向剂量杯(50)的射束中具有脱离规定轨道的轨道的射束成分入射到剂量杯(50)的测量区域。