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处理液供给装置、基板处理系统及处理液供给方法

摘要

处理液供给装置包括:处理液罐,贮存处理液;第一处理液配管,使所述处理单元和所述处理液罐连接;开闭单元,用于开闭所述第一处理液配管;加压单元,为了使所述处理液罐的内部的处理液向所述第一处理液配管的内部送出,利用气体对该处理液进行加压;压力调整单元,用于调整所述处理液罐的内部的压力;以及控制装置,在所述开闭单元关闭之前,控制所述压力调整单元,使处于加压状态的所述处理液罐的内部逐渐地向大气开放,在向大气开放开始后,关闭所述开闭单元。

著录项

  • 公开/公告号CN108025335B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社斯库林集团;

    申请/专利号CN201680052890.8

  • 发明设计人 岩尾通矩;

    申请日2016-07-05

  • 分类号B08B3/02(20060101);B05D3/00(20060101);H01L21/304(20060101);B05C11/10(20060101);

  • 代理机构72003 隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人向勇;宋晓宝

  • 地址 日本京都府

  • 入库时间 2022-08-23 11:36:06

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