一种镀银层的微针阵列及其制备方法

摘要

本发明公开了一种镀银层的微针阵列及其制备方法，材料制备领域。本发明的制备方法，包括：对微针阵列进行反溅处理；将过渡金属靶材和银靶材安装在磁控溅射设备的具有非平衡磁场的靶位上；利用射频电源依次向微针阵列上溅射过渡金属镀层和银镀层；所述溅射条件为：工作气压为0.2～0.5Pa，工作温度为50～100℃，样品托盘的自转转速为5～30°/秒，溅射功率为30～80W，所加负偏压为‑50～‑100V。本发明的制备方法，解决了纳米银薄膜中纳米粒子团聚的问题。本发明的微针阵列，抗菌效果对于金黄色葡萄球杆菌、大肠杆菌等常见细菌高达99.9％。