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一种低针孔发生率高绝缘亚光黑色聚酰亚胺薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低针孔发生率高绝缘亚光黑色聚酰亚胺薄膜及其制备方法。所述的制备方法包括以下步骤:1)将溶质为碳黑的黑色分散液和溶质为消光剂的白色分散液混合,所得混合液进行剪切分散和/或超声分散,加入非金属醇盐及聚酰胺酸树脂溶液,经剪切分散和/或超声分散后得到黑色填料分散液;2)在极性非质子溶剂中,按1:0.990‑0.998的摩尔比加入二胺和二酐反应制得聚酰胺酸树脂溶液,加入黑色填料分散液,搅匀后加入或不加入稳定剂,搅匀,得到亚光黑色PAA树脂溶液;3)所得亚光黑色PAA树脂溶液进一步制成亚光黑色PI薄膜。采用本发明所述方法制得的薄膜具有优异的绝缘性能、较好的机械性能以及较低的针孔和气泡率。

著录项

  • 公开/公告号CN109135280B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林电器科学研究院有限公司;

    申请/专利号CN201810971261.6

  • 申请日2018-08-24

  • 分类号C08L79/08(20060101);C08K3/04(20060101);C08K3/22(20060101);C08K3/36(20060101);C08J5/18(20060101);C08G73/10(20060101);

  • 代理机构45107 桂林市持衡专利商标事务所有限公司;

  • 代理人唐智芳

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市七星区东城路8号

  • 入库时间 2022-08-23 11:34:14

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