一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法

摘要

本发明公开了一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法，包括基底，所述基底一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层，所述基底另一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层，每一面所述氧化硅层和氢化硅层的总层数均设置为20‑40层，每一面所述氧化硅层的厚度设置为1300‑2000nm，每一面所述氢化硅层的厚度设置为400‑800nm。本发明，得到滤光片可以使氢化硅的折射率达到控3.8‑4.5，二氧化硅的折射率达到1.4‑1.6，可以满足大角度小偏移的要求；采用的膜系方案，波长定位准确，陡度好；空间层采用高折射率的氢化硅材料，耦合层则用低折射率的二氧化硅材料，这样角度效应引起的偏移量比用低折射率材料要小。