用于蚀刻硅晶片的高纯度碱蚀刻溶液及硅晶片的碱蚀刻方法

摘要

本发明提供了用于蚀刻硅晶片的高纯度碱蚀刻溶液，该溶液的金属杂质污染极低，使用所述的碱蚀刻溶液能够提供极佳的表面平整度，本发明还涉及使用所述高纯度碱蚀刻溶液的碱蚀刻方法。本发明的用于蚀刻硅晶片的碱蚀刻溶液中含有40至60重量%的氢氧化钠和0.01至10重量%硝酸盐和/或亚硝酸盐，所述氢氧化钠含有：1pp或更低的铜、镍、镁和铬元素；5ppb或更低的铅和铁元素；10ppb或更低的铝、钙和锌元素；1ppm或更低的氯化物、硫酸盐、磷酸盐、氮化合物。