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长周期光纤光栅的纳米级精度栅距的激光刻写装置及方法

摘要

本发明公开了一种长周期光纤光栅的纳米级精度栅距的激光刻写装置及方法,激光器发出的激光经可调焦柱面透镜组聚焦后再经摆镜反射聚焦于放置在六维调整台上的光纤的纤芯,从而刻写光栅。转台和Tip/Tilt快反镜构成粗精两级扫描角度精密控制子系统,精确控制栅距;角锥棱镜一,角锥棱镜二、反射镜一、分光镜一、分光镜二、He‑Ne激光器、光电探测器构成光干涉精密测角子系统,实时精密测量Tip/Tilt快反镜所转的角度,给控制系统提供闭环控制信号;宽带光源、光谱仪、光纤耦合器组成光栅图谱测量系统,实时测量光栅中心波长、带宽、反射谱、透射谱。本发明通过粗精两级Tip/Tilt快反镜实现刻写激光光束的反射角度高精度扫描,使得长周期光纤光栅的栅距精度优于0.02μm。

著录项

  • 公开/公告号CN109387901B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN201710655051.1

  • 申请日2017-08-03

  • 分类号G02B6/02(20060101);G05D27/02(20060101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人王玮

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:50

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