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关键环境中受控的稀释流

摘要

本发明描述了一种受控的稀释流体流动模式。在实施例中,流体供应设备被配置用于控制关键房间内流体的流动模式。所述关键房间包括收受到污染的关键区域。第一流体供应喷嘴被配置用于提供第一流体供应喷流以朝向所述关键区域的大致中心提供所述流体的第一流动。第二流体喷嘴被配置用于提供第二流体供应喷流以朝向所述房间的周边提供所述流体的第二流动。对所述第一流体供应喷流的动量和所述第二流体供应喷流的动量进行调节以便通过所述第一流动对所述关键区域的大致中心进行冲洗并且大体上阻止了所述第二流动渗透到所述关键区域的所述大致中心。在其他实施例中,伴随所述设备的特征讨论了一种HVAC系统和方法。

著录项

  • 公开/公告号CN106152395B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 霍尔顿公司;

    申请/专利号CN201610319533.5

  • 发明设计人 K·哈格斯特罗姆;

    申请日2016-05-12

  • 分类号F24F11/74(20180101);F24F11/79(20180101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡春光;张颖玲

  • 地址 芬兰考萨拉

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:32

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