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具有弯曲焦面或目标基准元件和场补偿器的共焦成像设备

摘要

一种共焦成像设备,包括产生光束阵列的照明模块。聚焦光学器件将光束阵列共焦聚焦到非平坦焦面上,并且将光束阵列导向待成像的三维对象。平移机构调整至少一个透镜的位置,以使非平坦焦面沿着成像轴移位。检测器测量返回光束阵列的强度,该返回光束从三维对象反射,并且通过聚焦光学器件被导回。对于至少一个透镜的位置测量返回光束阵列的强度,用以确定三维对象的点在成像轴上的位置。调整一个以上的点的检测到的位置以补偿非平坦焦面。

著录项

  • 公开/公告号CN107076985B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 阿莱恩技术有限公司;

    申请/专利号CN201580056255.2

  • 申请日2015-08-17

  • 分类号G02B27/00(20060101);G01B11/24(20060101);G02B23/24(20060101);G02B23/26(20060101);A61C9/00(20060101);

  • 代理机构11464 北京奉思知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴立;邹轶鲛

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:30

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