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真三维高集成度温控微反应器及其加工方法

摘要

本发明属于光学微加工技术领域,具体涉及真三维高集成度温控微反应器及其加工方法,目的在于解决现有温控微反应器在制备方法、器件结构和控温方式方面所存在的问题。本发明采用飞秒激光湿法刻蚀结合金属微固化工艺制得的真三维高集成度温控微反应器包括设在玻璃芯片内的微直通道和包围在直通道外围的螺旋形金属微线圈。将温控微反应器的反应单元和加热单元集成在一块玻璃芯片中,集成度大大提高;并且由于加热单元包围在反应单元外围,使得微反应器中的温度分布更加均匀,节省了反应时间、提高了反应效率与成功率;通过控制微线圈两端通电电流的大小来实现对微反应器内流体温度的控制,控温方式简单。

著录项

  • 公开/公告号CN109022246B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN201811044920.8

  • 发明设计人 陈烽;郑书浩;杨青;山超;

    申请日2018-09-07

  • 分类号C12M1/00(20060101);C12M1/38(20060101);

  • 代理机构61211 西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈广民

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:18

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