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一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置

摘要

一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置,包括主控台、真空腔、膜料盘、膜料、膜料激发源、辅助源、工件盘、薄膜厚度控制系统、控温系统、膜厚均匀性修正系统、真空腔观察窗、光学基片,还包括实时激光拦截装置。本发明实施例提供的提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置,在现有技术基础上增加实时激光拦截装置,能够在镀膜过程中实时拦截并清理杂质颗粒。与现有技术相比,本发明实施例提供的装置可以实时拦截、清理杂质,实现边镀边提纯,同时增强化合反应达到理想化学计量比,提高光学薄膜的损伤阈值。

著录项

  • 公开/公告号CN109972095B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院理化技术研究所;

    申请/专利号CN201910363334.8

  • 发明设计人 彭钦军;申玉;杨峰;袁磊;薄勇;

    申请日2019-04-30

  • 分类号C23C14/30(20060101);C23C14/54(20060101);C23C14/56(20060101);

  • 代理机构11489 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈超

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29号

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:09

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