一种含有基底特征的薄膜-基底-薄膜系统光学特性分析方法

摘要

本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种含有基底特征的薄膜‑基底‑薄膜系统光学特性分析方法。光学薄膜的基底在加工过程中存在亚表面损伤层，该层对于高性能光学薄膜性能的影响不可避免。本方法是将亚表面层等效为渐变折射率薄膜，在基底两侧加入两层折射率渐变薄膜，渐变折射率薄膜的起始光学常数与大块材料相同，两层渐变折射率层与两个表面的多层膜分别构成完整的薄膜‑基底‑薄膜系统。该方法对于所有的薄膜‑基底‑薄膜系统的光学特性计算与评价具有普适性。