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OPC建模中次分辨率辅助图形确定的方法

摘要

本发明公开一种OPC建模中次分辨率辅助图形确定的方法,包括:步骤S1:在已有SRAF数据库中选择可曝在晶圆上的第一SRAF类型;步骤S2:选择具有第一SRAF类型的结构图形,并在结构图形中选取图形周期恰可加入1根和2根第一SRAF类型的结构图形进行CDSEM量测,收集数据建立可评估SRAF类型是否会曝在晶圆上的模型;步骤S3:通过模型模拟具有系列SRAF类型的版图数据库,以确定不会曝在晶圆上的SRAF类型;步骤S4:在SRAF类型中选取第二SRAF类型,并在晶圆上进行二次验证,以确定第二SRAF类型不会曝在晶圆上;步骤S5:基于具有第二SRAF类型的不同结构图形,收集OPC模型数据并开展建模。本发明不仅有效减少OPC建模前期准备工作量,缩短确定SRAF类型的时间和提高资源利用率,而且提高OPC建模效率和准确度。

著录项

  • 公开/公告号CN107885028B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201711464502.X

  • 发明设计人 汪牡丹;俞海滨;于世瑞;

    申请日2017-12-28

  • 分类号G03F1/36(20120101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 11:31:22

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