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发射光谱分析装置

摘要

本发明提供一种即使是不熟练者也能以适当次数执行校正用标准试样的测定的发射光谱分析装置。在发射光谱分析装置中设置:计算部,其针对每个检测器,计算标准试样的多次测定中的测定值的偏差;判定部,其当对全部检测器而言所述偏差为容许值以内的情况下,判定为不需要进行标准试样的追加测定,当对某一个检测器而言所述偏差超过容许值的情况下,判定为需要进行标准试样的追加测定;通知部,其将判定部的判定结果通知给操作者;以及计算/判定控制部,其以在以规定次数进行了标准试样的测定的时刻进行所述偏差的计算及判定,在判定为需要进行追加测定的情况下,其后每进行1次追加测定就进行所述偏差的计算及判定的方式,控制计算部和判定部。

著录项

  • 公开/公告号CN108469431B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社岛津制作所;

    申请/专利号CN201810144839.0

  • 发明设计人 贝发达也;

    申请日2018-02-12

  • 分类号G01N21/67(20060101);

  • 代理机构31300 上海华诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人肖华

  • 地址 日本国京都府京都市中京区西之京桑原町1番地

  • 入库时间 2022-08-23 11:25:34

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