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一种含芘-吡啶基团的共轭聚合物及其合成方法与应用

摘要

一种含芘‑吡啶基团的共轭聚合物及其合成方法与应用,所述共轭聚合物如式I或II所示;所述合成方法采用以芘衍生物与2,6‑二(乙炔基)吡啶为单体,通过Sonogashira缩聚反应合成得到本发明共轭聚合物;本发明制备纳米粒子的方法:将共轭聚合物溶于易挥发溶剂中,得到浓度为60~125ppm的共轭聚合物溶液;向表面活性剂溶液中加入所述共轭聚合物溶液,超声至溶液澄清,过滤,即得。本发明共轭聚合物属于低聚合物,尺寸小,可制备粒径小于10nm的纳米粒子;所得的纳米粒子的平均粒径小于10nm,将其应用于金属离子、有机小分子和细胞成像领域,有助于提高检测方法的检测限和灵敏度。

著录项

  • 公开/公告号CN110563636B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南师范大学;

    申请/专利号CN201910860385.1

  • 申请日2019-09-11

  • 分类号C07D213/06(20060101);C07D213/127(20060101);C09K11/06(20060101);G01N21/64(20060101);

  • 代理机构43205 长沙星耀专利事务所(普通合伙);

  • 代理人王艳;宁星耀

  • 地址 410081 湖南省长沙市岳麓区麓山路36号

  • 入库时间 2022-08-23 11:24:55

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