公开/公告号CN108952668B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-20
原文格式PDF
申请/专利号CN201710345752.5
申请日2017-05-17
分类号E21B43/267(20060101);
代理机构11611 北京聿华联合知识产权代理有限公司;
代理人刘烽
地址 100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号
入库时间 2022-08-23 11:22:04
机译: 在地下储层压裂的地下储层中水力压裂处理的制备方法,方法以及压裂渗透率大于10 MD的地下储层的方法
机译: 常压等离子体产生装置,常压等离子体产生电路和常压等离子体产生方法
机译: 储层地下水力压裂处理的制备方法,地层地下压裂方法,地层地下压裂方法的地层渗透率大于10 MD方法,高度控制A裂缝,受地层下水或天然气层限制的方法,以及将地层下层压裂并促进尖端筛网的方法。