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用于真空处理系统的负载锁定腔室和真空处理系统

摘要

描述一种用于真空处理系统的负载锁定腔室(122;422;522)。所述负载锁定腔室包括形成负载锁定腔室容积的负载锁定壁和用于将所述负载锁定腔室抽空的真空产生装置(425)。所述负载锁定腔室还进一步包括颗粒捕集器(127;427;527),所述颗粒捕集器至少位于所述负载锁定腔室的一个壁(430;528;529;530;531)处。此外,描述一种包括负载锁定腔室和处理腔室的处理系统。

著录项

  • 公开/公告号CN106232863B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201480078013.9

  • 发明设计人 F·皮耶拉利西;T·格贝勒;

    申请日2014-04-16

  • 分类号C23C14/56(20060101);C23C16/44(20060101);C23C16/54(20060101);H01J37/32(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人侯颖媖

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:21:58

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