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步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法

摘要

一种步进扫描投影光刻机中杂散光的原位检测方法。通过四个狭缝刀口的准确定位在物面(即掩模面)上限定一个光斑并通过投影物镜成像在工件台上,能量传感器测得光斑像中心处光强为I0,依次完成M×N个光斑的测量,然后狭缝打开,测量上述测量点光强为I1,杂散光系数由公式(I1-I0)/I0计算;若所测量得到的杂散光系数超出曝光系统要求的指标,分析杂散光来源:利用特制掩模与四个狭缝刀口中的两个狭缝刀口共同限定一光斑,此光斑经投影物镜成像,能量传感器测量像光斑内的光强分布,根据测得的光强分布分析杂散光是来自照明系统还是投影物镜。它解决现有方法均只能测量杂散光的大小,不能区分杂散光来源的技术问题,为采取消除杂散光措施提供了有效依据。

著录项

  • 公开/公告号CN100409102C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200510024229.X

  • 发明设计人 郭立萍;王向朝;

    申请日2005-03-07

  • 分类号G03F7/20(20060101);G01M11/00(20060101);

  • 代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人王敏杰

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-12

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20050307

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2008-08-06

    授权

    授权

  • 2008-08-06

    授权

    授权

  • 2005-10-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-10-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    公开

    公开

  • 2005-08-17

    公开

    公开

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