在接触孔中形成的配线分层结构，配线分层结构的制作方法，以及具有该配线分层结构的显示装置

摘要

通过使用氢氟酸缓冲液进行蚀刻，在SiO₂制成的栅极绝缘薄膜和形成于栅极绝缘薄膜上的由SiN制成的层间绝缘薄膜中形成接触孔。在该接触孔中，形成一电极包括：由耐熔性金属制成的第一保护金属层；形成于第一保护金属层上且由电阻低于耐熔性金属的电阻的金属制成的配线层；以及由耐熔性金属制成的且厚度大于栅极绝缘薄膜厚度的第二保护金属层。