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一种可自引发的紫外光固化低聚物及其制备方法

摘要

本发明提供了一种可紫外光固化的自引发低聚物及其制备方法,该发明提供了可以紫外光固化的自引发低聚物的合成方法,所述低聚物是由2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基‑1‑丙酮和异氰酸酯化合物及丙烯酸(甲基丙烯酸)羟基酯、催化剂、助剂等合成的一种可以在紫外光照射下,产生自由基并且自己交联固化的低聚物。低聚物紫外光固化不需要加入另外的紫外光引发剂,具有气味低,且不产生小分子碎片,固化成膜具有硬度高,固化度可达90%。

著录项

  • 公开/公告号CN107915829B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 瑞通高分子科技(浙江)有限公司;

    申请/专利号CN201711162097.6

  • 发明设计人 余宗萍;淳生前;

    申请日2017-11-21

  • 分类号C08G18/67(20060101);C09D175/14(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人冯慧

  • 地址 313000 浙江省湖州市南浔区菱湖镇工业功能区凉山路159号

  • 入库时间 2022-08-23 11:14:52

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