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公开/公告号CN107405938B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-15
原文格式PDF
申请/专利权人 光学转变公司;
申请/专利号CN201580077554.4
发明设计人 J·M·弗里亚斯;W·D·卡彭特;
申请日2015-03-10
分类号B41M3/00(20060101);B41M5/00(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人孙悦
地址 美国佛罗里达州
入库时间 2022-08-23 11:13:39
机译: 以非均匀的线性图案着色光学元件的方法
机译: 制备以非均匀线性图案着色的光学元件的方法
机译:基于等离子体物理和非线性光学的耦合非均匀非线性薛定ding系统的Darboux变换改进方法
机译:通过虚拟有源元件图案扩展使用迭代FFT的不等距线性阵列的图案合成,包括相互耦合
机译:具有图案可重构元件的线性相控阵二维图案扫描
机译:由衍射光学元件制成,该衍射光学元件能够通过梯形多功率偏振干涉曝光方法同时产生大量线性偏振和圆偏振。
机译:使用干涉滤光片作为非线性光学逻辑门并使用全息光学元件作为光学互连的光学计算。
机译:在马达加斯加日落蛾的翅膀图案中使用高阶光学干涉进行着色
机译:增强了由图案化石墨烯纳米制成的元件的光学非线性
机译:用于非线性光学元件的稳定的可光图案化聚合物材料的制备