离子镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法

摘要

本发明申请公开了一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜，所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。上述纳米叠层Ni‑P膜的微观结构更为致密，显著提高镀膜的耐磨性能和耐腐蚀性能。本发明申请还公开了上述离子镀Ni‑P纳米叠层膜的制备方法，采用离子镀膜技术沉积无需使用任何化学镀液，也不会产生废液，绿色环保。