一种基于蒙特卡洛光线跟踪的太阳辐射能密度仿真方法

摘要

本发明公开了一种基于蒙特卡洛光线跟踪的太阳辐射能密度仿真方法，通过预生成两张定义在局部坐标系中的随机数查找表用于分别存储刻画入射光分布方向和定日镜微表面法向扰动方向，再构建选择起始位置的辅助用的一维随机数表，通过从辅助用的一维随机数表中读取索引，入射光分布方向和定日镜微表面法向扰动方向分别从两张预生成的随机数查找表中获取，再通过仿射变换转化为全局坐标系中的方向，用于后续的仿真计算。在保证太阳辐射能密度仿真结果精度的同时，较大程度上减少随机数的生成和存储开销。