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离子注入方法和离子注入的玻璃基板

摘要

本发明涉及一种用于通过注入简单电荷和多电荷离子增加玻璃基板的耐划伤性的方法,所述方法包括将被处理的玻璃基板的区域的温度维持在小于或等于所述玻璃基板的玻璃化转变温度的温度下,在Ar、He、和N的离子之中选择有待被注入的离子,将用于提取所述离子的加速电压设置为包括在5kV与200kV之间的值并且将离子剂量设置为包括在10

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-07

    授权

    授权

  • 2018-09-07

    著录事项变更 IPC(主分类):C03C23/00 变更前: 变更后: 申请日:20151021

    著录事项变更

  • 2017-11-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C23/00 申请日:20151021

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    公开

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