一种高合金化GH4720Li合金单级均匀化退火工艺

摘要

本发明公开了一种高合金化GH4720Li合金单级均匀化退火工艺，该工艺包括以下步骤：步骤一、将高合金化GH4720Li合金以10℃/min～20℃/min的升温速率加热至1120℃；步骤二、将步骤一中加热至1120℃的高合金化GH4720Li合金以1℃/min～5℃/min的升温速率加热至1180℃～1230℃后保温8h～28h，然后进行炉冷。本发明通过控制单级均匀化的升温速率、温度和保温时间消除了高合金化GH4720Li合金中存在的(γ+γ′)共晶相和硼化物低熔点析出相，促进了Al、Ti、W、Mo元素充分扩散，消除了元素偏析，且退火过程中不会发生过烧现象，得到成分均匀的高合金化GH4720Li合金。