光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质

摘要

本发明公开了一种光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质，本发明的磁流变抛光补偿加工方法包括：获取平面去除函数；映射得到不同曲率下的球面去除函数；针对待加工工件面形区域内的每一个驻留点，拟合计算驻留点附近的复杂曲面局部区域的最接近球面，以该复杂曲面局部区域的最接近球面的曲率对应的球面去除函数近似作为该驻留点附近的复杂曲面局部区域的去除函数；建立基于线性方程组模型的驻留时间求解算法，仿真求得各个驻留点的驻留时间分布及面形残差，指导待加工工件的磁流变抛光。本发明能够有效保证了加工过程中的确定性，且提高了加工过程中的收敛率。