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液晶介电常数的测量装置、测量系统、测量方法

摘要

本公开提供了一种液晶介电常数的测量装置、测量系统、测量方法,以提高对液晶在太赫兹频段的介电常数的测量的灵敏度、准确度及测量效率,并简化测量装置的结构,降低测量成本。其中所述测量装置包括:相对设置的第一基板和第二基板;依次设置于第一基板朝向第二基板一面上的谐振结构层及第一配向膜;设置于第二基板朝向第一基板一面上的第二配向膜;设置于第一基板和第二基板之间的边框,边框配合第一基板和第二基板形成用于容纳待测量的液晶的空腔。上述测量装置应用于对液晶在太赫兹波频段的介电常数的测量中。

著录项

  • 公开/公告号CN108872713B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201810710418.X

  • 发明设计人 卢永春;

    申请日2018-07-02

  • 分类号G01R27/26(20060101);

  • 代理机构11274 北京中博世达专利商标代理有限公司;

  • 代理人胡萌

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2022-08-23 11:00:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    授权

    授权

  • 2018-12-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R27/26 申请日:20180702

    实质审查的生效

  • 2018-11-23

    公开

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