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一种考虑温度效应的射频MOS器件的建模方法

摘要

本发明公开了一种考虑温度效应的射频MOS器件的建模方法,通过引入了寄生元件的温度模型,使射频MOS器件模型的拟合更加准确,通过迭代调整寄生元件温度模型的相关参数及本征模型温度的相关参数,可使不同温度下的器件直流数据及射频条件下的关键指标均能与测试数据得到较好拟合,为射频MOS器件在不同温度的应用提供了基础。

著录项

  • 公开/公告号CN106951586B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201710080862.3

  • 发明设计人 刘林林;

    申请日2017-02-15

  • 分类号

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区上海浦东张江高斯路497号

  • 入库时间 2022-08-23 10:58:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    授权

    授权

  • 2017-08-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20170215

    实质审查的生效

  • 2017-07-14

    公开

    公开

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