用于扫描电容显微镜的样品的制备方法及使用该方法制备的样品

摘要

本发明提供了一种用于扫描电容显微镜的样品的制备方法，其特征在于：方法包括：提供目标地址区域，目标地址区域是要使用扫描电容显微镜进行扫描的任何结构，并且目标地址区域埋设于第一氧化物中，以及在第一氧化物之下具有硅片；在第一氧化物上沉积第二氧化物；在第二氧化物上黏贴一层或多层玻璃片，得到待研磨样品；以及研磨待研磨样品，从而得到用于扫描电容显微镜的样品。本发明在现有的待研磨SCM截面样品上再沉积氧化物层，并黏贴玻璃片层，增加了待研磨SCM截面样品的整体厚度，使得在研磨过程中，由于用力不均匀而导致的曲面截面现象不会损坏目标地址区域。