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正性光刻胶组合物、过孔的形成方法、显示基板及显示装置

摘要

本发明提供一种正性光刻胶组合物、过孔的形成方法、显示基板及显示装置,涉及显示技术领域,该正性光刻胶组合物中包括有光致异构化合物,受到紫外光照射后结构转变为分子极性程度增加的离子结构,降低了该正性光刻胶与有机膜层间的附着力,有利于过孔形成后的剥离,提高产品的生产良率。该正性光刻胶组合物包括,主体胶材、光敏剂;光致异构化合物;所述光致异构化合物受到紫外光照射后结构转变为分子极性程度增加的离子结构。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-05

    授权

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  • 2017-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/039 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2017-12-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/039 申请日:20170802

    实质审查的生效

  • 2017-12-01

    公开

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  • 2017-12-01

    公开

    公开

  • 2017-12-01

    公开

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