首页> 中国专利> IPMC材料的制备方法、其中间体的制备方法、IPMC材料

IPMC材料的制备方法、其中间体的制备方法、IPMC材料

摘要

本发明公开一种IPMC材料的制备方法,包括以下步骤:基体膜糙化处理发生在基体膜进行第一次离子交换处理之后以及基体膜进行第一次还原处理之前。本发明还公开了一种IPMC材料的中间体制备方法、一种采上述的IPMC材料的制备方法制备的IPMC材料。本发明具有实现增强电极与基体膜之间的附着力,增加渗入电极的深度以及改善渗入电极的形貌,从而进一步提高IPMC材料的电化学性能和机电性能的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN109338422B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN201811220201.7

  • 申请日2018-10-19

  • 分类号C25D3/48(20060101);C25D5/56(20060101);

  • 代理机构34124 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王亚洲

  • 地址 242000 安徽省宣城市经济技术开发区薰化路301号(合肥工业大学宣城校区)

  • 入库时间 2022-08-23 10:56:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-22

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C25D3/48 变更前: 变更后: 申请日:20181019

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2020-04-21

    授权

    授权

  • 2020-04-21

    授权

    授权

  • 2019-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/48 申请日:20181019

    实质审查的生效

  • 2019-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/48 申请日:20181019

    实质审查的生效

  • 2019-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/48 申请日:20181019

    实质审查的生效

  • 2019-02-15

    公开

    公开

  • 2019-02-15

    公开

    公开

  • 2019-02-15

    公开

    公开

  • 2019-02-15

    公开

    公开

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