首页> 中国专利> 一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量方法及其装置

一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量方法及其装置

摘要

本发明公开了一种基于光谱调制度深度编码的微结构形貌测量方法及其装置。被测元件与空间光调制器在测量所采用光谱范围的中心波长下呈物像共轭;光束折转耦合器、空间光调制器、准直扩束镜头、分束器、轴向非消色差显微物镜、成像镜头和彩色相机之间呈共光路结构。测量时,先对系统装置进行“光谱—深度”对应关系的预标定,再经测量装置采集被测元件反射的各帧单色移相条纹图,得到与被测件面形相关的各单色光条纹图的调制度分布,获取编码图像;采用高斯、类高斯或样条模型拟合确定待测面上各点的“光谱—调制度”关系曲线,解调得到对应的待测面上各点的深度信息,完成被测元件三维形貌分布微结构形貌的无机械式扫描、全场非接触的快速高精度测量。

著录项

  • 公开/公告号CN108844492B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州大学;

    申请/专利号CN201811013435.4

  • 发明设计人 马锁冬;曾春梅;戴放;

    申请日2018-08-31

  • 分类号G01B11/24(20060101);

  • 代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陶海锋

  • 地址 215137 江苏省苏州市相城区济学路8号

  • 入库时间 2022-08-23 10:54:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-03

    授权

    授权

  • 2018-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/24 申请日:20180831

    实质审查的生效

  • 2018-12-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/24 申请日:20180831

    实质审查的生效

  • 2018-11-20

    公开

    公开

  • 2018-11-20

    公开

    公开

  • 2018-11-20

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号