首页> 中国专利> 一种高分离选择性纯硅沸石复合膜及其制备方法

一种高分离选择性纯硅沸石复合膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种高分离选择性纯硅沸石复合膜,该纯硅沸石复合膜包括多孔载体层和沸石分离层两部分,其中多孔载体层为多孔载体,沸石分离层由亚微米级沸石粒子组成,且沿着大孔载体的粗糙、凹凸表面紧密排列,同时,载体层与分离层结构紧凑,沸石复合膜整体无缺陷,显示出良好的气体混合物或液体混合物分离选择性能。

著录项

  • 公开/公告号CN109745871B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910156178.8

  • 发明设计人 肖伟;彭辉;

    申请日2019-03-01

  • 分类号B01D71/02(20060101);B01D69/12(20060101);B01D67/00(20060101);B01D53/22(20060101);B01D17/022(20060101);

  • 代理机构11588 北京华仁联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人张可可

  • 地址 210043 江苏省南京市江北新区惠达路9号A座1层

  • 入库时间 2022-08-23 10:51:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    授权

    授权

  • 2019-06-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01D71/02 申请日:20190301

    实质审查的生效

  • 2019-06-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01D 71/02 申请日:20190301

    实质审查的生效

  • 2019-05-14

    公开

    公开

  • 2019-05-14

    公开

    公开

  • 2019-05-14

    公开

    公开

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