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一种铁磁半导体薄膜的转移方法及应用

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本发明公开了一种铁磁半导体薄膜的转移方法及应用，该方法实现了(Ga,Mn)As薄膜在任意衬底上的转移。转移之后的(Ga,Mn)As薄膜可以与其他不同物理特性的二维层状材料(如半金属石墨烯，半导体MoS₂、超导体NbSe₂等)通过范德瓦尔斯力构建磁性异质结构，可用于制备新奇的自旋器件。采用本发明可以提高(Ga,Mn)As薄膜与传统硅工艺集成技术的兼容性，对拓展自旋电子学的应用有重要的意义。

著录项

公开/公告号CN108933193B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-11

原文格式PDF
申请/专利权人北京大学;
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申请/专利号CN201710385970.1
发明设计人袁恺;王海龙;姚笑寒;赵建华;戴伦;叶堉;
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申请日2017-05-26
分类号H01L43/12(20060101);H01L43/10(20060101);
代理机构11360 北京万象新悦知识产权代理有限公司;
代理人贾晓玲
地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号
入库时间 2022-08-23 10:50:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-02-11

授权

授权
2018-12-28

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/12 申请日:20170526

实质审查的生效
2018-12-28

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 43/12 申请日:20170526

实质审查的生效
2018-12-04

公开

公开
2018-12-04

公开

公开
2018-12-04

公开

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