首页> 中国专利> 一种核壳异质结构锗硅纳米线及其可控制备方法和应用

一种核壳异质结构锗硅纳米线及其可控制备方法和应用

摘要

本发明公布了一种核壳异质结构锗硅纳米线及其可控制备方法和应用,采用高精度的电子束光刻和干法刻蚀来定义纳米线的位置和大小,避免了传统生长法中的随机成核生长的问题;本发明引入了高温氧化硅使硅纳米线缩小的办法,实现了锗硅纳米线横向尺寸的进一步缩小;通过调节锗/硅沉积速率比的办法,可实现锗组分在0~100%的范围内任意调节,硅的沉积速率越快,锗的组分越低;反之,锗的组分越高;本发明提供的核壳异质结构锗硅纳米线的可控制备方法具有可控性好、工艺步骤简单、可重复性高等优点,在半导体制造领域中的纳米线无结晶体管器件、硅基发光器件、单电子器件器件等方向有很好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN107039242B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉拓晶光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201710140216.1

  • 发明设计人 夏金松;李毅;

    申请日2017-03-10

  • 分类号

  • 代理机构长沙星耀专利事务所(普通合伙);

  • 代理人许伯严

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号未来科技城A5北区4栋77层701单元34座

  • 入库时间 2022-08-23 10:47:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-31

    授权

    授权

  • 2017-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20170310

    实质审查的生效

  • 2017-09-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20170310

    实质审查的生效

  • 2017-08-11

    公开

    公开

  • 2017-08-11

    公开

    公开

  • 2017-08-11

    公开

    公开

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