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一种用于SAR子孔径成像的方位模糊抑制方法

摘要

本发明提供了一种用于SAR子孔径成像的方位模糊抑制方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:按照成像处理流程对原始回波数据进行距离向处理然后再沿方位向划分子孔径,其中对原始回波数据进行距离向处理具体为:进行距离向FFT;再进行距离压缩;进行距离向IFFT;去除脉冲持续时间点数;步骤2:数据处理完成后进行子孔径距离向处理,子孔径距离向处理的具体步骤为首先子孔径方位FFT;再进行数据两端进行补零,增加两端脉冲持续时间点数来实现扩展子孔径长度;进行距离向FFT;进行距离向逆压缩、三次相位滤波,参考点相位补偿;进行距离向IFFT;进行Chirp Scaling运算。

著录项

  • 公开/公告号CN106842196B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201510882971.8

  • 发明设计人 张玮;方华永;

    申请日2015-12-03

  • 分类号

  • 代理机构中国航空专利中心;

  • 代理人杜永保

  • 地址 214063 江苏省无锡市梁溪路108号

  • 入库时间 2022-08-23 10:46:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-17

    授权

    授权

  • 2017-07-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S13/90 申请日:20151203

    实质审查的生效

  • 2017-07-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S 13/90 申请日:20151203

    实质审查的生效

  • 2017-06-13

    公开

    公开

  • 2017-06-13

    公开

    公开

  • 2017-06-13

    公开

    公开

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