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包括在具有硼层的硅衬底上的场发射极阵列的光电阴极

摘要

一种光电阴极利用一体地形成于硅衬底上的场发射极阵列FEA来增强光电子发射,且利用直接安置在所述FEA的输出表面上的薄硼层来阻止氧化。所述场发射极是通过具有安置成二维周期性图案的各种形状(例如,角锥体或经修圆晶须)的突出部形成,且可经配置而以反向偏置模式操作。任选栅极层经提供以控制发射电流。任选第二硼层形成于经照射(顶部)表面上,且任选抗反射材料层形成于所述第二硼层上。在相对的所述经照射表面与所述输出表面之间产生任选外部电位。通过特殊掺杂方案且通过施加外部电位而形成n型硅场发射极与p‑i‑n光电二极管膜的任选组合。所述光电阴极形成传感器及检验系统的部分。

著录项

  • 公开/公告号CN107667410B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201680028700.9

  • 申请日2016-05-21

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张世俊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:45:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-10

    授权

    授权

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J1/304 申请日:20160521

    实质审查的生效

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 1/304 申请日:20160521

    实质审查的生效

  • 2018-02-06

    公开

    公开

  • 2018-02-06

    公开

    公开

  • 2018-02-06

    公开

    公开

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