一种金刚石对顶砧电学测量中不同氧逸度原位控制方法

摘要

本发明公开了提供一种金刚石对顶砧电学测量中不同氧逸度原位控制方法，它包括：步骤1、氧逸度缓冲环的制作；步骤2、利用氧逸度缓冲环制作绝缘复合垫片；步骤3、在金刚石砧面进行不同金属‑金属氧化物的沉积，并形成电极构型；步骤4、通过绝缘复合垫片和在金刚石砧面不同金属‑金属氧化物的沉积形成密闭样品腔；解决了现有技术在DAC中进行高温高压电学实验时，由于DAC装置的特殊性，其样品腔只有百微米量级，传统的电学性质测量过程中通常采用的氧逸度控制方法，难以达到理想的效果；如何将固体缓冲剂有效地集成到DAC微小腔体中还没有精确的实现方法等技术问题。