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带有第一和第二场电极结构的半导体装置

摘要

本发明涉及带有第一和第二场电极结构的半导体装置。半导体装置包含:从第一表面延伸到半导体部分中的第一和第二场电极结构。第一场电极结构包含使针状第一场电极与半导体部分绝缘的第一场电介质。第二场电极结构包含使针状第二场电极与半导体部分绝缘的第二场电介质。第二场电介质比第一场电介质更厚。在第一表面中第一和第二场电极结构的开口可以是非圆形对称的,其中第二场电极结构的开口关于第一场电极结构的开口倾斜。替选地或附加地,在第一表面中第二场电极结构的开口可以比第一场电极结构的开口更大。

著录项

  • 公开/公告号CN105938847B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英飞凌科技奥地利有限公司;

    申请/专利号CN201610122679.0

  • 发明设计人 F.希尔勒;M.H.菲勒迈尔;

    申请日2016-03-04

  • 分类号H01L29/40(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人申屠伟进;杜荔南

  • 地址 奥地利菲拉赫

  • 入库时间 2022-08-23 10:42:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-05

    授权

    授权

  • 2016-10-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/40 申请日:20160304

    实质审查的生效

  • 2016-10-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/40 申请日:20160304

    实质审查的生效

  • 2016-09-14

    公开

    公开

  • 2016-09-14

    公开

    公开

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