一种基于BCD工艺的高压浮动轨LDO

摘要

一种基于BCD工艺的高压浮动轨LDO，属于集成电路技术领域。包括浮动轨电路、误差放大器、调整管、第一分压采样电阻和第二分压采样电阻，浮动轨电路为误差放大器提供低压电源，浮动轨电路包括电流源和多个栅漏短接的带埋层的MOS管构成的串联结构，多个MOS管构成的串联结构的一端连接输入电压，另一端作为浮动电压端连接误差放大器电源轨的低电压端和电流源的负向端；带埋层的MOS管的外延层连接浮动电压端。通过改变浮动轨电路中带埋层的MOS管的个数可以自由选择误差放大器的电源轨，增大了误差放大器设计的灵活度；同时利用BCD工艺中的埋层电位，选择带埋层的PMOS管设计误差放大器，在保证误差放大器高性能同时，进一步压缩了高压LDO芯片面积。